Simoen, EddyEddySimoenSatta, AlessandraAlessandraSattaMeuris, MarcMarcMeurisJanssens, TomTomJanssensClarysse, TrudoTrudoClarysseBenedetti, AlessandroAlessandroBenedettiDemeurisse, CarolineCarolineDemeurisseBrijs, BertBertBrijsHoflijk, IlseIlseHoflijkVandervorst, WilfriedWilfriedVandervorstClaeys, CorCorClaeys2021-10-162021-10-162005https://imec-publications.be/handle/20.500.12860/11215Defect removal, dopant diffusion and activation issues in ion-implanted shallow junctions fabricated in crystalline germanium substratesProceedings paper