Delabie, AnneliesAnneliesDelabieHeyne, MarkusMarkusHeyneGroven, BenjaminBenjaminGrovenHaesevoets, KarelKarelHaesevoetsMeersschaut, JohanJohanMeersschautNuytten, ThomasThomasNuyttenVerdonck, PatrickPatrickVerdonckVan Elshocht, SvenSvenVan ElshochtHeyns, MarcMarcHeynsRadu, IulianaIulianaRaduCaymax, MattyMattyCaymax2021-10-222021-10-222015-07https://imec-publications.be/handle/20.500.12860/25182Reducing agents for the atomic layer deposition of WS2 from the WF6 and H2S precursorsProceedings paper