Gillijns, WernerWernerGillijnsVan de Kerkhove, JeroenJeroenVan de KerkhoveTrivkovic, DarkoDarkoTrivkovicDe Bisschop, PeterPeterDe BisschopRio, DavidDavidRioHsu, StephenStephenHsuFeng, MuMuFengZang, QiangQiangZangLiu, Hua-YuHua-YuLiu2021-10-212021-10-212013https://imec-publications.be/handle/20.500.12860/22401OPC resist model separability validation after SMO source changeProceedings paperhttp://proceedings.spiedigitallibrary.org/proceeding.aspx?articleid=1678442