Goethals, MiekeMiekeGoethalsVandenberghe, GeertGeertVandenberghePollentier, IvanIvanPollentierErcken, MoniqueMoniqueErckenBisschop, P.P.BisschopMaenhoudt, MireilleMireilleMaenhoudtRonse, KurtKurtRonse2021-10-142021-10-142001https://imec-publications.be/handle/20.500.12860/5317Recent progress in ArF lithography for the 100nm nodeJournal article