Lauria, JohnJohnLauriaAlbright, R.R.AlbrightVladimirsky, O.O.VladimirskyHoeks, M.M.HoeksVanneer, R.R.Vanneervan Drieenhuizen, B.B.van DrieenhuizenChen, L.L.ChenHaspeslagh, LucLucHaspeslaghWitvrouw, AnnAnnWitvrouw2021-10-172021-10-1720090167-9317https://imec-publications.be/handle/20.500.12860/15653SLM device for 193 nm lithographic applicationsJournal article