Wang, QingfengQingfengWangMaex, KarenKarenMaexKubicek, StefanStefanKubicekJonckheere, RikRikJonckheereKerkwijk, BasBasKerkwijkVerbeeck, RitaRitaVerbeeckBiesemans, SergeSergeBiesemansDe Meyer, KristinKristinDe Meyer2021-09-292021-09-291995https://imec-publications.be/handle/20.500.12860/1007New CoSi2 SALICIDE technology for 0.1 µm processes and belowProceedings paper