Tokei, ZsoltZsoltTokeiGailledrat, ThomasThomasGailledratLi, YunlongYunlongLiSchuhmacher, JorgJorgSchuhmacherMandrekar, T.T.MandrekarGuggilla, S.S.GuggillaMebarki, B.B.MebarkiMaex, KarenKarenMaex2021-10-162021-10-162005https://imec-publications.be/handle/20.500.12860/11325Barrier reliability of ALD TaN on sub-100 nm copper low-k interconnectsProceedings paper