Veloso, AnabelaAnabelaVelosoDemuynck, StevenStevenDemuynckErcken, MoniqueMoniqueErckenGoethals, MiekeMiekeGoethalsDemand, MarcMarcDemandde Marneffe, Jean-FrancoisJean-Francoisde MarneffeAltamirano Sanchez, EfrainEfrainAltamirano SanchezDe Keersgieter, AnAnDe KeersgieterDelvaux, ChristieChristieDelvauxDe Backer, JohanJohanDe BackerBrus, StephanStephanBrusHermans, JanJanHermansBaudemprez, BartBartBaudemprezVan Roey, FriedaFriedaVan RoeyLorusso, GianGianLorussoBaerts, ChristinaChristinaBaertsGoossens, DannyDannyGoossensVrancken, ChristaChristaVranckenMertens, SofieSofieMertensVersluijs, JankoJankoVersluijsTruffert, VincentVincentTruffertHuffman, CraigCraigHuffmanLaidler, DavidDavidLaidlerHeylen, NancyNancyHeylenOng, PatrickPatrickOngParvais, BertrandBertrandParvaisRakowski, MichalMichalRakowskiVerhaegen, StafStafVerhaegenHikavyy, AndriyAndriyHikavyyMeiling, H.H.MeilingHultermans, B.B.HultermansRomijn, L.L.RomijnPigneret, C.C.PigneretLok, S.S.LokVan Dijk, A.A.Van DijkShah, K.K.ShahNoori, A.A.NooriGelatos, J.J.GelatosArghavani, R.R.ArghavaniSchreutelkamp, RobRobSchreutelkampBoelen, PieterPieterBoelenRichard, OlivierOlivierRichardBender, HugoHugoBenderWitters, LiesbethLiesbethWittersCollaert, NadineNadineCollaertRooyackers, RitaRitaRooyackersAbsil, PhilippePhilippeAbsilLauwers, AnneAnneLauwersJurczak, GosiaGosiaJurczakHoffmann, Thomas Y.Thomas Y.HoffmannVanhaelemeersch, SergeSergeVanhaelemeerschCartuyvels, RudiRudiCartuyvelsRonse, KurtKurtRonseBiesemans, SergeSergeBiesemans2021-10-172021-10-172008https://imec-publications.be/handle/20.500.12860/14732Full-field EUV and immersion lithography integration in 0.186μm² FinFET 6T-SRAM cellProceedings paper