Meersschaut, JohanJohanMeersschautToeller, MichaelMichaelToellerSchaekers, MarcMarcSchaekersWang, Xin PengXin PengWangBrijs, BertBertBrijsWouters, DirkDirkWoutersJurczak, GosiaGosiaJurczakAltimime, LaithLaithAltimimeVan Elshocht, SvenSvenVan ElshochtVancoille, EricEricVancoille2021-10-182021-10-182010https://imec-publications.be/handle/20.500.12860/17613Metal-organic chemical vapor deposition of Ti-doped NiO layers for application in resistive switching memoriesProceedings paper