Lauria, JohnJohnLauriaAlbright, RonaldRonaldAlbrightVladimirsky, OlgaOlgaVladimirskyChen, LuoqiLuoqiChenHoeks, MaartenMaartenHoeksVanneer, RoelRoelVanneervan Drieënhuizen, BertBertvan DrieënhuizenHaspeslagh, LucLucHaspeslaghWitvrouw, AnnAnnWitvrouwSchlatmann, BartBartSchlatmann2021-10-172021-10-172008https://imec-publications.be/handle/20.500.12860/13989SLM device for 193 nm lithographic applicationsMeeting abstract