Dirksen, PeterPeterDirksenJuffermans, CasperCasperJuffermansPellens, R. J.R. J.PellensMaenhoudt, MireilleMireilleMaenhoudtDe Bisschop, PeterPeterDe Bisschop2021-10-062021-10-061999https://imec-publications.be/handle/20.500.12860/3424Novel aberration monitor for optical lithographyProceedings paper