Full-field EUV and immersion lithography integration in 0.186μm² FinFET 6T-SRAM cell

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Author(s)

Veloso, Anabela

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Demuynck, Steven

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Ercken, Monique

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Goethals, Mieke

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de Marneffe, Jean-Francois

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Altamirano Sanchez, Efrain

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De Keersgieter, An

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Delvaux, Christie

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De Backer, Johan

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Baudemprez, Bart

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Van Roey, Frieda

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Baerts, Christina

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Goossens, Danny

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Vrancken, Christa

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Versluijs, Janko

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Truffert, Vincent

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Parvais, Bertrand

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Rakowski, Michal

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Verhaegen, Staf

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Hikavyy, Andriy

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Schreutelkamp, Rob

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Richard, Olivier

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Witters, Liesbeth

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Collaert, Nadine

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Rooyackers, Rita

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Absil, Philippe

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Hoffmann, Thomas Y.

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Vanhaelemeersch, Serge

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Cartuyvels, Rudi

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Biesemans, Serge

Metrics

3 since deposited on 2021-10-17

Acq. date: 2025-10-23

1980 since deposited on 2021-10-17

Acq. date: 2025-10-23